集成電路的製造者——光刻機

光刻機，是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的最關鍵裝置。它就像一把十分精細的手術刀，在晶圓刻出一條條溝道，形成一個個十分小的晶體管。芯片裏晶體管的數量，決定了芯片的運算速度，數量越多，芯片運算越快。早期光刻機只需要用汞燈就可以了，但隨着尺度要求越來越嚴格，漸漸便來到了紫外光的範圍，這就是光刻機所說的UV了。目前光刻機使用的波長分別是193nm的DUV(Deep Ultraviolet)，和我們現在手機芯片製程常用的13.5nm的EUV(Extreme Ultraviolet)。隨了光源以外，還需要改變光的形狀。但光線經過反射鏡後，並不會全部反射出去。在每一次的反射中，鏡片都會吸收掉百分之三十的EUV光强，到達晶圓時光強只有原本的百分之二了。因此，光刻機需要在比較耗電的情況下，才能保持光強以完成晶圓的製作。

劉仲衡 鏡平 高一